![模拟电子系统设计指南(基础篇):从半导体、分立元件到TI集成电路的分析与实现](https://wfqqreader-1252317822.image.myqcloud.com/cover/808/47378808/b_47378808.jpg)
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2.5 结电流密度
在P区x=-xp的边缘处,从N区流到P区的电荷产生的电子电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_6.jpg?sign=1738856543-7vqvXdiSZY2S4h25QfdVDc5U1I9lySql-0-15f3098a68882770e2370233d161047b)
式中,Dn为少子电子的扩散密度;Ln为少子电子的扩散长度,其与 Dn及少子寿命 τno的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_7.jpg?sign=1738856543-rw5jkTMo8ZDs1iJczsfeHYjQyjN5ZPVd-0-9077f7ebfb94593325a479e80a56f183)
少子寿命定义为P区少子电子与P区多子空穴进行复合的平均时间。同理,在N区x=xn的边缘处,从P区流到N区的电荷产生的空穴电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_8.jpg?sign=1738856543-QapntC53mp9IzBXj7c0qKJDL9AShxanv-0-5ab6c2fdd1367e845fc1febc474edf97)
Dp为少子空穴的扩散密度;Lp为少子空穴的扩散长度,其与Dp以及少子寿命τpo的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_9.jpg?sign=1738856543-qKh8AMdYcZ1iZYSfWkYoiF4pxVLNkRLA-0-f562f1d021c7ef7e8764d2cb873b3dc7)
因此,流过PN结的总电流密度为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_10.jpg?sign=1738856543-YAG4xxq2BrzeK5ZkKLVq7Y9jDHEBuiaL-0-2970b4c80b720f32c11b3da5fd117314)
将此式写成更通用的形式:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_1.jpg?sign=1738856543-4bafE3zHJ3xXBRk3Sym3P7JaC1pgWLcC-0-f1245570ad3ee0df426f5aab61d4f88b)
式中,参数J s为反向饱和电流密度,取决于PN结的物理参数,表示为
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_2.jpg?sign=1738856543-Ex7w3P2hcKKjx6wCftQquSLAIV0wDtPd-0-f06f347ffd6a9827d2ae66447d3d540b)
式 (2.31) 即适用于正值 (正向偏置条件),也适用于负值 (反向偏置条件)。因此,二极管的电流等于电流密度JS与PN结横截面积Apn的乘积,表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_3.jpg?sign=1738856543-EyVphGlf6L7gyTMf8cgUtfhwPEsvYYfI-0-dd2b13e603be1c049243e8041a11b1c5)
式中,IS为反向饱和电流;vD为施加的电压;η为常数,其范围1~2,与实际二极管的制造工艺有关。式 (2.33) 描述了肖特基势垒结的特性。
注:vD >0 为正向偏置条件,vD <0 为反向偏置条件。