![晶体硅太阳电池物理](https://wfqqreader-1252317822.image.myqcloud.com/cover/670/35808670/b_35808670.jpg)
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5.8 表面复合引起的界面电流
本节讨论厚度为Δx的表面薄层中单位时间、单位面积上载流子复合的情况。
在p型半导体中,按照式(5-163),表面复合率为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_1.jpg?sign=1739275206-i65lAR9efONsg3dFU83pwlEDDAtRW813-0-2ca7d37ff72b21dade4b02cfae1941b9)
从连续性方程可知,少子向表面流失会引起表面复合电流。在热平衡状态下,稳态又无外界作用时,即无光照或外加电压时,Gn=0,按式(5-182)可得:
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_2.jpg?sign=1739275206-eCj9Tuy7OSv1s4IHMOMezxaz7VORLEJJ-0-cbe852bec0cb8e95b3bb5f51962eac2f)
对薄层Δx积分后,得到在界面位置xs处电子电流的变化量为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_3.jpg?sign=1739275206-SPjLOReV1VLGOPfhmkdYpCs3rb3j4dWY-0-3bf2f270322dd0a681494a19d7fe725a)
如果界面是n型半导体表面,,那么表面的电子电流密度为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_5.jpg?sign=1739275206-jNlYlib8V3TaINIlUNBaYfnN6GjlyAnY-0-371161109b5288a2a044dd1980ed1547)
式中,负值表明电子电流密度Jn的方向与少子(即电子)发生表面复合的运动方向相反。
类似地,在n型半导体的表面上,空穴电流的变化量为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_6.jpg?sign=1739275206-pjHDXLhGnlwOX6lt9wQJYa6aoVZowJFo-0-11758f4cc1d60cc23759d538d5ce14f5)
如果界面是p型半导体表面,,那么表面的空穴电流为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_8.jpg?sign=1739275206-gDAGhJWs4Zm0ejzse31b7ynThxvmxRYZ-0-6e81cab02f8277cd8c68b639211113ff)
空穴电流Jp的方向与少子(即空穴)发生表面复合的运动方向相同。
上述公式也很重要,在求解基本方程时,这些公式是太阳电池表面的边界条件。